CVD 钻石

化学气相沉积可以描述为从含碳气体中生长出钻石。

化学气相沉积 工艺的起始过程如下：我们将一块金刚石板放入真空室中，然后将这块板加热到 800 ℃。然后在真空室中注入富含碳的气体（通常是甲烷），并用微波束将其加热到 3000 ⁰C。这样做是为了打破分子键，释放出碳原子，然后将其沉积到金刚石板上。金刚石缓慢而稳定地向上生长（其长度和宽度受制于板的大小）。化学气相沉积从开始到完成需要 1-4 周时间（取决于所需的重量）。

化学气相沉积（CVD）是一种高度可控的方法，不仅用于生产钻石，还用于生产光学 和半导体。该工艺是在一个专门的腔体内利用超纯富碳气体的结果。通过加热甲烷等碳基气体，碳原子从气体中分离出来并沉积到金刚石基底上，从而形成粗糙的金刚石晶体。这个过程非常精确，需要六到十周的时间才能完成。CVD 工艺的结果是生产出宝石级IIa 型钻石，这表明通过这种方法生产的钻石产量 高、质量好。