CVD-Diamanten

Unter Chemical Vapor Deposition versteht man das Züchten von Diamanten aus kohlenstoffhaltigem Gas.

Das CVD-Verfahren beginnt folgendermaßen: Wir legen eine Diamantplatte in eine Vakuumkammer und erhitzen diese Platte auf 800 ⁰C. Dann wird die Kammer mit kohlenstoffreichem Gas (normalerweise Methan) gefüllt, das ebenfalls mit einem Mikrowellenstrahl auf 3000 ⁰C erhitzt wird. Dadurch werden molekulare Bindungen aufgebrochen und Kohlenstoffatome freigesetzt, die sich dann auf der Diamantplatte ablagern. Langsam aber sicher wächst der Diamant in die Höhe (seine Länge und Breite sind durch die Größe der Platte begrenzt). Das CVD-Verfahren dauert von Anfang bis Ende 1-4 Wochen (je nach gewünschtem Gewicht).

Die chemische Gasphasenabscheidung (Chemical Vapor Deposition, CVD) ist ein hochgradig kontrolliertes Verfahren, das nicht nur für die Herstellung von Diamanten, sondern auch von optischen und Halbleiterprodukten verwendet wird. Dieses Verfahren beruht auf der Verwendung von hochreinen kohlenstoffreichen Gasen in einer speziellen Kammer. Durch Erhitzen der kohlenstoffhaltigen Gase, wie z. B. Methan, werden die Kohlenstoffatome aus dem Gas herausgelöst und auf einem Diamantsubstrat abgelagert, wodurch ein Rohdiamantkristall entsteht. Dieser Prozess ist äußerst präzise und kann zwischen sechs und zehn Wochen dauern. Das Ergebnis des CVD-Verfahrens ist die Herstellung von Diamanten des Typs IIa mit Edelsteinqualität, was die hohe Ausbeute und Qualität der mit dieser Methode hergestellten Diamanten belegt.