Diamants CVD

Le dépôt chimique en phase vapeur peut être décrit comme la croissance de diamants à partir de gaz contenant du carbone.

Le processus dedépôt chimique en phase vapeur commence comme suit : nous plaçons une plaque de diamant dans une chambre à vide et chauffons cette plaque jusqu'à 800 ⁰C. La chambre est ensuite remplie d'un gaz riche en carbone (généralement du méthane) qui est également chauffé à 3000 ⁰C à l'aide d'un faisceau de micro-ondes. Cette opération a pour but de briser les liaisons moléculaires et de libérer des atomes de carbone qui se déposent ensuite sur la plaque de diamant. Lentement mais sûrement, le diamant se développe vers le haut (sa longueur et sa largeur sont limitées par la taille de la plaque). Le dépôt chimique en phase vapeur prend de 1 à 4 semaines du début à la fin (en fonction du poids requis).

Le dépôt chimique en phase vapeur, ou CVD, est une méthode hautement contrôlée utilisée pour la production non seulement de diamants, mais aussi d'optiques et de semi-conducteurs. Ce processus résulte de l'utilisation de gaz ultra-purs riches en carbone dans une chambre spécialisée. En chauffant les gaz à base de carbone, comme le méthane, les atomes de carbone sont séparés du gaz et déposés sur un substrat de diamant, ce qui entraîne la formation d'un cristal de diamant brut. Ce processus est extrêmement précis et peut durer de six à dix semaines. Le processus CVD aboutit à la production de diamants de type IIa de qualité gemme, ce qui démontre le rendement élevé et la qualité des diamants produits par cette méthode.